佛山某光电器件IC芯片生产加工厂，晶圆生产加工操作过程中生成含硅、氟的特异生活污水，开发处里建设规模1200吨/日。生活污水材料麻烦，具有刺激性nm级硅颗粒剂及氢氧化钠，常用处里步骤没办法符合标准。 废水处理方法基本成分及来原 一般生态破坏物 ：氢氧化铁硅（100-500nm粒级）、氟阴阳离子（200-300mg/L）、异丙醇 源生产工艺 ：晶圆刻蚀废液（45%）、CMP化工物理拋光废液（40%）、设施设备清洗阴道水（15%） 进行处理加工方案 改革创新选用"化学上发展+独特的膜隔离"水平路线图： 钙盐奠定 ：加药氯化钙清除氟化合物（添加CaF2沉淀物中） 斜管沉淀池反應 ：分手后复合斜管沉淀池剂实现目标橡胶胶体部分硅脱稳 管式微滤 ：0.1μm孔经膜截流微细小粒 反进行渗透模式 ：脱盐率>98%，收旧率75% 多效蒸发析出 ：浓水段进行氟化物零减排 之后效用 氟化物溶度：<8mg/L（小于部委七级标准规范10mg/L） 硅成分：<5mg/L 水网络资源循环率：70%主要用于一系列冷水塔皮肤补水 垃圾减低：化掉残留物量较传统与现代工艺设备减低60%