半导体晶圆划片废水怎么处理方法|半导体晶圆划片废水处理案例
項目背景图案
该行业主为世界十大一流的半导测封行业主,地处珠三边形国家,包括实现高品质集成电路芯片的片区和芯片封装自测。基于内地安全规范要求从紧,行业主决定性推进废水处理工艺零进行排放过程。内容于2030年开始,2023-5年6月起建动工,处理规模较为200吨/日,总的投资约2000万是。
废水处理工艺基本成分及主要来源
本项效果划区污废水 拥有下例特质:
高氨水氨水浓度氟化物,主要源于晶圆水刀切割后的清洁工作道工序,氟铁离子氨水氨水浓度自由高达150-200mg/L
所含纳米技术级硅粉颗粒物,孔径多在100-500nm之中
有机的负担较高,COD在500-800mg/L
含带轻微巨资属如铅、镉等
纯水电导率高,通常情况下在2000-3000μS/cm
解决技术步奏
为保证0排放出关键,加工制作工艺 设计制作侧重考量废污水划分整理和材料收回:
生活污水分类别回收体统
:将含氟电镀废气与其它电镀废气分开用自身
普通机械沉淀出的除氟
:利用二级钙盐析出法,协调效率析出池
高档腐蚀解决
:什么是臭氧催化阳极氧化阳极氧化分解难正确处理有机会物
膜浓缩咖啡软件系统
:按照DTRO碟管式反参透,萃取度数为10倍
蒸馏析出
:MVR机械设备过热蒸汽再收缩减压蒸馏器正确处理浓水
烘干程序
:将结晶体盐潮湿后做实业副厂品外售
工作效用
程序执行数据源出现:
氟化物清除率>99.9%,冒水氟铁离子<1mg/L
COD总快速清理率>98%,出水出水COD<20mg/L
水环境资源回报率>95%,仅有极少量凝结盐
每季度可回报高品级使用水约16万吨
成果盐纯净度超过工业化级条件,实现了资源共享化通过
业务不做到了工业废水零污染物,还依据物资收回带来了约80万美金/年的额外的回报。