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半导体含氟废水处理案例|半导体含氟废水处理方法

工程蓝本 该半导体技术研制单位坐落于华南区县,大部分制造集合电路系统软件集成块,日直接废气排放含氟废污水正确除理方法约800吨。因为本市干净规定增长,原始正确除理生活设施没办法提供氟化物直接废气排放溶度高于5mg/L的新要,单位融资1捌佰元新砌的行业含氟废污水正确除理方法正确除理系统软件。 生活污水组成成分及原因 废水处理一般来自于处理芯片生产加工的过程 中的刻蚀工作和家电清洗工作,一般危害物主要包括: 氟铝离子氨水浓度:300-800mg/L pH值:2- 有效少量的硅酸盐、聚磷酸盐 进样器巨资属如铜、镍等 工作方法标准流程 按照"预正确操作+电化学发展+纵深正确操作"搭档施工工艺: 控制池:均衡教育水质量储水量,软件设置pH网上检测 二级发应池:污泥脱水氢阳极氧化钙,掌控pH至7-8,生成氟化钙沉定 五级积累池:积累区分氟化钙工业废水 二次表现池:加药系统氯化钙和整合氯化铝,进十步删去残渣氟阴离子 二级元乳浊液池:二级乳浊液分开 砂滤系统化:取除悬屏物 活性炭吸附性炭活性炭吸附:去掉有机化学物和少量巨资属 活性厌氧颗粒污泥处置模式:板框压滤脱干,活性厌氧颗粒污泥含水量率调至60%以内 后面结果 控制系统运动可靠后,溢水土质: 氟铁离子酸度:2.1-3.8mg/L pH值:6.5-7. SS<5mg/L 血本属水平均降到验出限 非常标准要求《光电子工农业水的固体废弃物污染物物标》(GB39731-2020)标准要求,每月以减少氟化物污染物物约180吨。

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